近日，北方華創發布12英寸氣體團簇離子束（GCIB）刻蝕設備Acme Glaion130，該設備面向先進邏輯、存儲、先進封裝、硅光芯片及AR/VR等應用領域。

圖片來源：北方華創

據介紹，該設備主要圍繞氣體團簇離子源、高速運動電極控制及動態控制算法等方向進行設計優化。其中包括通過原位膜厚測量實現刻蝕路徑調整，以提升晶圓局部加工一致性。

該設備可用于先進邏輯與存儲芯片的刻蝕加工、先進封裝中的表面處理與修平、硅光芯片表面平坦化，以及AR/VR光學結構刻蝕等工藝環節。

其中，在硅光芯片領域，該設備可實現原子級表面平坦度，降低光散射損耗，提升光通信效率，全面助力硅光芯片產業向高端化迭代升級。

在AR/VR領域，該設備支持離子束入射角度靈活調節，實現光柵刻蝕高均一性和漸變深度刻蝕，助力AR/VR設備光學性能升級。

值得一提的是，硅光芯片與AR/VR作為前沿技術的重要應用方向，正迎來廣闊的市場機遇：

據TrendForce集邦咨詢估計，2026年用于AI數據中心的光通信模塊中，CPO滲透率僅約0.5%。隨著硅光與CPO封裝技術逐漸純熟，跨機柜的Scale-Up光互連數據傳輸最快將于Rubin Ultra或Feynman世代開始出現。在數據傳輸帶寬不斷提高的情況下，TrendForce集邦咨詢預估至2030年左右，硅光CPO于AI數據中心的滲透率有機會達到35%水平。

與此同時，AR/VR市場也正加速發展。據TrendForce集邦咨詢預估，在科技大廠的助推下，2026年全球AR眼鏡出貨量將躍升至95萬臺，年增率高達53%。

在相關產業發展背景下，北方華創Acme Glaion130設備的發布，有望為硅光芯片、AR/VR等高潛力應用提供更優的工藝解決方案。（來源：北方華創、LEDinside整理）