美國議員擬推“MATCH法案”，收緊對華DUV光刻機出口

近日，美國國會兩黨議員聯合提出一項名為《硬件技術控制多邊協調法案》（MATCH Act）的立法草案，旨在進一步限制中國獲取半導體制造設備的能力。

該法案若獲通過，將對荷蘭芯片設備巨頭阿斯麥（ASML）的對華業務造成重大沖擊，引發市場擔憂，導致其股價在歐洲股市開盤后一度下跌約2.6%。

該法案的發起人、華盛頓州共和黨眾議員邁克爾·鮑姆加特納的辦公室在4月2日發表的一份聲明中表示，“盡管美國實施了廣泛的出口管制措施來減緩中國半導體自主化進程，但美國的盟友并沒有完全采取相應的措施。這種不協調造成了關鍵漏洞，而中國正在繼續利用這些漏洞。”

MATCH法案的核心目標是切斷中國主要半導體企業獲得關鍵制造設備的渠道，并特別點名中芯國際、華虹半導體、華為、長江存儲和合肥長鑫等五家中國公司。法案不僅計劃禁止向這些企業出售新的設備，更擬禁止為已售出的受限設備提供日常維護、軟件升級及關鍵零部件更換服務。

該法案的管制范圍也從以往最尖端的極紫外光刻機（EUV）大幅延伸至應用廣泛的浸潤式深紫外光刻機（DUV）。DUV光刻機是制造28納米及以上成熟制程芯片的關鍵設備，而成熟制程正是當前中國芯片產業的主力。

盡管ASML從未向中國出口過EUV設備，但其在2025年對華銷售額仍占全球總銷售額的約33%，是其最重要的營收增長引擎。該公司曾預測，受現有管控影響，2026年這一比例將降至約20%。若MATCH法案最終落地，這一數字恐將進一步急劇下滑。

市場分析普遍認為，該法案對ASML的業績將產生顯著影響。

Quilter Cheviot的技術研究主管Ben Barringer指出，受影響的DUV設備約占ASML總銷售額的10%-15%，其中中國市場約占一半，因此可能帶來約5%的直接沖擊。盡管其他地區的銷售額可能因非中國廠商擴產而增長，但恐不足以完全抵消失去的中國收入。

目前，該法案仍處于立法初期的聽證階段，需經過參眾兩院投票及總統簽署方能生效。“雖然該法案尚處于早期階段，結果尚不明朗，但它造成了地緣政治上的不確定性。目前還不清楚所有DUV設備是否都會受到影響，或者目前對某些DUV設備的限制是否會延長。” ODDO BHF股票研究主管Stephane Houri表示。

但值得一提的是，由于其獲得了跨黨派的支持，市場普遍認為ASML在2026年下半年獲得通過的可能性較高。ASML官方對此立法動向拒絕置評，而荷蘭外交部則重申貿易政策應由主權國家獨立監管。

分析人士指出，過去幾年的限制措施在一定程度上反而促進了中國國內半導體產業的發展，多家中國公司營收創下新高，一些企業也已經找到了一些被切斷技術的替代方案。