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三星宣布2030年量產(chǎn)1nm 與臺(tái)積電角逐下一代工藝主導(dǎo)權(quán)

2026-04-03 來源:經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)
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關(guān)鍵詞: 三星 晶圓代工 臺(tái)積電 1nm制程

三星晶圓代工再次杠上臺(tái)積電(2330)。外電報(bào)導(dǎo),三星率先喊出2030年前1nm制程到位并進(jìn)入量產(chǎn)階段,成為業(yè)界首家揭露1nm生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)計(jì)劃的廠商,與臺(tái)積電爭(zhēng)奪話語(yǔ)權(quán)。

相較之下,臺(tái)積電尚未公布1nm生產(chǎn)藍(lán)圖。對(duì)于三星搶先揭露1nm相關(guān)時(shí)程,至昨(31)日截稿前,臺(tái)積電沒有進(jìn)一步評(píng)論。

臺(tái)積電目前對(duì)外公布的最先進(jìn)制程技術(shù)發(fā)展計(jì)劃,是邁入「埃米時(shí)代」的下一代先進(jìn)邏輯制程A14(1.4nm),預(yù)計(jì)2028年生產(chǎn)。

臺(tái)積電強(qiáng)調(diào),A14制程技術(shù)旨在透過提供更快的運(yùn)算和更好的能源效率,來推動(dòng)AI轉(zhuǎn)型,亦有望透過增進(jìn)裝置端AI功能來強(qiáng)化智能手機(jī)功能,使其更加智能。

臺(tái)積電先前指出,A14制程技術(shù)截至目前開發(fā)進(jìn)展順利,良率表現(xiàn)優(yōu)于預(yù)期進(jìn)度,搭載超級(jí)電軌技術(shù)(SPR)的版本計(jì)劃于2029年推出。

此外,臺(tái)積電隸屬于2nm家族A16制程計(jì)劃2026年下半年量產(chǎn)。 A16是臺(tái)積電邁入埃米制程的第一站,先前業(yè)界傳出,OpenAI自家ASIC芯片由博通、邁威爾(Marvell)等美商合作開發(fā),并在臺(tái)積電3nm與A16制程投片生產(chǎn)。

臺(tái)積電投入A16與更先進(jìn)的A14制程研發(fā)之際,外電報(bào)導(dǎo),三星積極追趕,傳出已訂下「2030年導(dǎo)入1nm制程」的遠(yuǎn)大目標(biāo),與臺(tái)積電正面交鋒,搶攻1nm時(shí)代主導(dǎo)權(quán)。

韓媒《BusinessKorea》報(bào)導(dǎo),產(chǎn)業(yè)人士透露,三星晶圓代工部門已規(guī)劃于2030年前完成1nm制程研發(fā),并進(jìn)入量產(chǎn)階段。由于1nm制程的電晶體密度是2nm的兩倍,制程難度明顯升高,被視為芯片微縮技術(shù)的重要里程碑。

報(bào)導(dǎo)指出,為了突破制程微縮的物理極限,三星1nm制程的主力架構(gòu)將從現(xiàn)行「環(huán)繞式閘極(GAA)」轉(zhuǎn)移至「叉型片(fork sheet)」結(jié)構(gòu),透過在nm片之間加入絕緣層,進(jìn)一步提升電晶體密度,達(dá)到改善功耗及效能的目標(biāo)。

韓媒先前報(bào)導(dǎo),由于AI對(duì)高階芯片需求殷切,三星持續(xù)加碼研發(fā)與資本支出,2025年投入總額已達(dá)90.4兆韓元,2026年將再增加22%,顯示三星急欲追趕甚至超越競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手,在AI芯片與高頻寬記憶體(HBM)等新興領(lǐng)域搶占更多話語(yǔ)權(quán)。

三星亦同步優(yōu)化現(xiàn)有先進(jìn)制程,積極爭(zhēng)取重量級(jí)客戶訂單。產(chǎn)業(yè)人士指出,三星已開發(fā)客制化2nm制程「SF2T」,主供特斯拉次世代AI芯片AI6,預(yù)計(jì)2027年于三星德州新廠量產(chǎn)。




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