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ASML確認(rèn),低端浸潤式DUV光刻機,出口也受到限制了

2024-01-29 來源:科技專家
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關(guān)鍵詞: 光刻機 晶圓 中國芯

2024年一開始,ASML就發(fā)公告稱,有兩個許可證被吊銷,分別是NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)的許可證,ASML稱,這影響到了少數(shù)中國客戶。


當(dāng)時這個消息發(fā)出來后,很多人不以為然,稱目前ASML在售的浸潤式DUV光刻機有多款,只是最新的兩款受限而已,還有NXT:2000i、NXT:1980Di等可以賣。


而這4款光刻機,其實分辨率差不多,都能實現(xiàn)至少7nm,甚至5nm,區(qū)別只是生產(chǎn)效率而已,所以不用太過于擔(dān)心。


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不過,近日,ASML正式確認(rèn),不只是NXT:2050i和NXT:2100i,低端浸潤式DUV光刻機,也受到限制了。


ASML表示稱,“個別中國先進(jìn)芯片制造晶圓廠將無法獲得發(fā)運NXT:1970i 和 NXT:1980Di 浸沒式DUV設(shè)備的許可證。”


這個“個別晶圓廠”是誰,估計不用我多說了吧,被列入美國“實體清單”的中國晶圓廠,大家都心里有數(shù)的。


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事實上,在2023年10月,美國升級的禁令中,關(guān)于光刻機的指標(biāo),相比上一年,就有了更為嚴(yán)格的規(guī)定。


2022年10月份時,美國的具體要求是,光刻機如果采用193nm波長的光源,且分辨率小于45nm時,其光刻機套刻精度的DCO值小于1.5nm時, 不準(zhǔn)出口,不在這個范圍內(nèi)的可以出口。


2023年10月份時,禁令升級了,193nm波長的光泊,且分辨率小于45nm時,如果其DCO值小于2.4nm時,就不能出口了,DCO值要求更嚴(yán)了。


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而NXT:1970i/NXT:1980Di,采用193nm波長,分辨率是小于等于38nm, DCO值為1.6nm,所以其DCO值是大于1.5nm,又小于2.4nm的。


在2022年10月份的禁令之下,能夠出口。但在2023年10月份的禁令之下,就無法出口了。


這也是為何ASML這次說明,對個別中國晶圓廠,無法出口NXT:1970i 和 NXT:1980i的原因。


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按照這個政策的話,如果ASML不針對中國市場,對光刻機進(jìn)行調(diào)整的話,那么這個“個別的的中國晶圓廠”,只能從ASML購得2013年首次出貨的NXT:1965Ci型號光刻系統(tǒng)了。


不過,大家也不必太過于擔(dān)心,2023年,中國企業(yè)從ASML采購了500億元的光刻機,足夠使用好幾年,就算暫時買不到,至少最近幾年內(nèi)也不會缺少浸潤式DUV光刻機,真正的困難是在幾年之后,就看國產(chǎn)光刻機,到時候能不能頂上來了。