- 韓企研發(fā)出石墨烯EUV光罩保護(hù)膜，能大幅度提高5nm芯片良率
- ASML壓力山大，全球都想繞過EUV光刻機(jī)，來制造芯片
- 突破EUV的替代方案：納米壓印
- 很遺憾，三種EUV光刻機(jī)替代方案，中國都表現(xiàn)不突出
- 給中國樹立榜樣：被日本制裁后，韓國3年量產(chǎn)EUV光刻膠
- 不黑不吹，研發(fā)出EUV光刻機(jī)，我們也無法順利制造7nm芯片
- 一臺EUV光刻機(jī)，年耗電1000萬度，臺積電也要心痛電費(fèi)
- ASML的哀愁：EUV光刻機(jī)將不再是制造高端芯片的唯一選擇
- 多條重磅消息傳出，ASML的EUV光刻機(jī)時代正在落幕
- 發(fā)力NIL技術(shù)，佳能想給中國提供光刻機(jī)，還是媲美EUV的那種
