中微公司董事長尹志堯，給半導體潑些冷水
近期，中微公司董事長尹志堯表示，他在四十余年的從業經驗里，經歷過半導體產業的七起七落。盡管研究機構預測半導體未來一兩年會持續增長，“但要有思想準備，萬一這個市場掉下來，我們需要應對措施。這就是為什么我們不斷開發新產品，不斷地把雞蛋放在不同的籃子里。”
尹志堯表示，“美國和日本的三大設備公司，都是先做刻蝕，做好了再做薄膜設備。薄膜設備完了以后，有膽量的就做濕法或者做檢測設備，沒有膽量的就留在刻蝕、薄膜設備。”他表示，在過去十三年，中微公司收入年均增長超過35%，“所以我現在有點膽量，一手去抓量檢測設備，一手去抓濕法工藝。”
尹志堯談到，“過去幾十年的預測，常常把符號都搞錯：今年夏天說明年夏天會增長，結果實際是降低的。所以現在雖然有預測（增長），但是我只相信百分之六七十。”
中微公司（688012.SH）2025年度業績顯示，公司全年實現營業總收入約123.85億元，同比增長36.62%；實現歸屬于母公司所有者的凈利潤約21.11億元，同比增長30.69%；實現歸屬于母公司所有者的扣除非經常性損益的凈利潤約15.50億元，同比增長11.64%。
近期，中微公司宣布推出四款瞄準前沿工藝需求的新產品，包括新一代電感耦合ICP等離子體刻蝕設備Primo Angnova?、高選擇性刻蝕機Primo Domingo?、Smart RF Match智能射頻匹配器以及藍綠光Micro LED量產MOCVD設備Preciomo Udx?，進一步豐富了公司在刻蝕設備、薄膜沉積設備及核心智能零部件領域的產品組合及系統化解決方案能力。
中微公司開發的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括20多種細分刻蝕設備已可以覆蓋95%以上的幾百種刻蝕應用。中微公司的等離子體刻蝕設備已被廣泛應用于國內和國際一線客戶，可以覆蓋從65納米及更先進工藝的眾多刻蝕應用。中微公司最近十年著重開發多種導體和半導體化學薄膜設備，如MOCVD、LPCVD、ALD、PVD、PECVD和EPI設備。中微公司開發的用于LED照明、顯示和功率器件外延片生產的MOCVD設備早已在客戶生產線上投入量產，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設備市場占據領先地位。此外，中微公司正在布局濕法設備并已全面布局光學和電子束量檢測設備，開發多種泛半導體微觀加工設備，包括在玻璃基板上制造微觀結構的大平板顯示設備等。這些設備都是制造各種微觀器件的關鍵設備，可加工和檢測微米級和納米級的各種器件。
