imec取得一臺ASML High NA EUV 設備 助攻AI芯片

比利時半導體研究機構imec 周三(18 日) 表示，已取得一臺由荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾( ASML-US ) 制造的High NA 極紫外光(EUV) 微影設備，價值約4 億美元。這款設備全球僅有不到十臺，被視為下一代芯片制造的重要關鍵設備，將協助產業推進更先進制程技術的研發與測試。

imec 指出，這臺High NA EUV 設備將成為其「NanoIC」試產線的核心設備。該試產線總投資規模達25 億歐元，其中約14 億歐元來自公共資金，包括歐盟《芯片法》(EU Chips Act) 提供的支持。 imec 長期采用共享研發模式，讓半導體企業與研究機構在類似晶圓廠的環境中，共同測試并開發最新制造技術。

High NA EUV 被視為EUV 技術的下一代升級版本。所謂High NA(高數值孔徑) 指的是設備采用更大的光學孔徑，概念類似相機鏡頭，使得芯片電路圖案能夠縮小至更精細的尺度。艾司摩爾表示，High NA 系統可讓芯片結構尺寸縮小最多約66%，有助于提升芯片運算速度并降低能耗。

包括英特爾( INTC-US ) 與SK 海力士在內的芯片制造商，正準備利用High NA 設備制造下一代人工智慧(AI) 邏輯芯片與高頻寬記憶體(HBM)，預計最早在2027 年開始導入量產。

imec 過去曾協助ASML 開發EUV 技術，如今也與多家半導體設備商建立合作關系，包括應用材料( AMAT-US )、科林研發( LRCX-US )、科磊( KLAC-US ) 以及東京威力科創(Tokyo Electron)。透過這些合作，imec 成為全球芯片企業測試與整合下一代制造設備的重要研發平臺。

艾司摩爾目前是全球唯一能生產EUV 微影設備的公司。該設備利用極紫外光將電路圖案「印制」到芯片晶圓上，是先進制程不可或缺的關鍵技術。

imec 執行長范登霍夫(Luc Van den hove) 表示，取得這臺High NA EUV 設備，將進一步鞏固歐洲在全球半導體價值鏈中的關鍵地位，也有助于提升歐洲在芯片技術上的戰略自主與技術主權。